鍍鎳 鍍層發(fā)暗、發(fā)黑的原因

   化學(xué)鍍鎳層發(fā)暗多數(shù)出現(xiàn)在低電流密度區(qū)，偶爾也有出現(xiàn)在中電流密度區(qū)或高電流密度區(qū)。

( 1 ) 低電流密度區(qū)鍍層發(fā)暗 ，可能是鍍液溫度太高 ，電流密度太小，主鹽濃度 太低 ，二次光亮劑過多或鍍液中有銅、鋅等 異金屬雜質(zhì)所引起的。

( 2 )中電流密度區(qū)鍍層發(fā)暗 ，可能是由二次光亮劑太少 ，有 機(jī)雜質(zhì)過多或有一定量的鐵雜質(zhì)所造成的。

(3 ) 高電流密度區(qū)鍍層 ，可能pH值太暗 高 ，一次光亮劑太少或鍍液 中有 少量 的鉻酸 鹽、磷酸鹽及鉛雜質(zhì)所引起的。

(4 ) 鍍前處理不 良，化學(xué)鍍鎳件表面 有堿膜 或有 機(jī)物吸附膜 ，或者底鍍層不好 ，也會(huì)導(dǎo)致鎳層出現(xiàn) 暗的現(xiàn) 象。

分析這類故障，可以取鍍鎳液先做霍爾槽試驗(yàn) ，假使 多 是鍍液次試驗(yàn) ，霍爾槽的陰極樣板上鍍層狀況 良好 ，沒有出現(xiàn)發(fā)暗的現(xiàn)象 ，那么鍍時(shí)出現(xiàn)的故障可能是化學(xué)鍍鎳前處理不 良或底鍍層不好所造成的，應(yīng)該認(rèn)真檢查電鍍前的情況。若霍爾槽試驗(yàn)所得陰極樣板上出現(xiàn)低電流密度區(qū)鍍層發(fā)暗，則可以根據(jù)前面提到的可能原因進(jìn)行分析。

      中、高 電流 密度區(qū)鍍層發(fā)暗，也 可用類似的方法進(jìn)行試驗(yàn)。如果光亮鍍鎳層整個(gè)工件都不光亮，究其 原因無非是 ：鍍液中光亮劑不足 ；鍍液 的pH 值不適當(dāng) ：鍍液溫度太低 ：陰極 電流 密度太小 ；金屬雜質(zhì)和有 機(jī)雜質(zhì)干擾嚴(yán)重；工件基體太差，本身太粗糙。由于故障的原因較單一，一查就知。因此，排除其故障也很簡單 。