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鍍鎳 鍍層發(fā)暗、發(fā)黑的原因
化學(xué)鍍鎳層發(fā)暗多數(shù)出現(xiàn)在低電流密度區(qū),偶爾也有出現(xiàn)在中電流密度區(qū)或高電流密度區(qū)。
( 1 ) 低電流密度區(qū)鍍層發(fā)暗 ,可能是鍍液溫度太高 ,電流密度太小,主鹽濃度 太低 ,二次光亮劑過多或鍍液中有銅、鋅等 異金屬雜質(zhì)所引起的。
( 2 )中電流密度區(qū)鍍層發(fā)暗 ,可能是由二次光亮劑太少 ,有 機(jī)雜質(zhì)過多或有一定量的鐵雜質(zhì)所造成的。
(3 ) 高電流密度區(qū)鍍層 ,可能pH值太暗 高 ,一次光亮劑太少或鍍液 中有 少量 的鉻酸 鹽、磷酸鹽及鉛雜質(zhì)所引起的。
(4 ) 鍍前處理不 良,化學(xué)鍍鎳件表面 有堿膜 或有 機(jī)物吸附膜 ,或者底鍍層不好 ,也會(huì)導(dǎo)致鎳層出現(xiàn) 暗的現(xiàn) 象。
分析這類故障,可以取鍍鎳液先做霍爾槽試驗(yàn) ,假使 多 是鍍液次試驗(yàn) ,霍爾槽的陰極樣板上鍍層狀況 良好 ,沒有出現(xiàn)發(fā)暗的現(xiàn)象 ,那么鍍時(shí)出現(xiàn)的故障可能是化學(xué)鍍鎳前處理不 良或底鍍層不好所造成的,應(yīng)該認(rèn)真檢查電鍍前的情況。若霍爾槽試驗(yàn)所得陰極樣板上出現(xiàn)低電流密度區(qū)鍍層發(fā)暗,則可以根據(jù)前面提到的可能原因進(jìn)行分析。
中、高 電流 密度區(qū)鍍層發(fā)暗,也 可用類似的方法進(jìn)行試驗(yàn)。如果光亮鍍鎳層整個(gè)工件都不光亮,究其 原因無非是 :鍍液中光亮劑不足 ;鍍液 的pH 值不適當(dāng) :鍍液溫度太低 :陰極 電流 密度太小 ;金屬雜質(zhì)和有 機(jī)雜質(zhì)干擾嚴(yán)重;工件基體太差,本身太粗糙。由于故障的原因較單一,一查就知。因此,排除其故障也很簡單 。